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二氟化氙（XeF2），又稱二氟代氙，分子量為169.30，在電子工業(yè)中，XeF2常被用作硅的蝕刻氣體，由于XeF2和硅的化學(xué)反應(yīng)是自發(fā)反應(yīng)，XeF2對硅的腐蝕工藝具有非常高的選擇性，在XeF2對硅進(jìn)行腐蝕過程中，XeF2氣體通過自由擴(kuò)散到硅襯底表面，并與最外層硅原子發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成氣態(tài)Xe和氣態(tài)SiF4，從而實現(xiàn)對硅的腐蝕。
產(chǎn)品指標(biāo)
產(chǎn)品用途：
在電子工業(yè)中，XeF2常被用作硅的蝕刻氣體。此外，二氟化氙是一種選擇性很好的氟化試劑，在無機(jī)氟化物制備及有機(jī)合成中有廣泛的應(yīng)用，但其只有在氣相和非水溶液中才具有氟化性質(zhì)，在水溶液中只能起氧化劑的作用。
產(chǎn)品貯存：
二氟化氙儲存于陰涼、通風(fēng)的庫房，應(yīng)與氧化劑、食用化學(xué)品、堿金屬分開存放，遠(yuǎn)離火種、熱源。
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